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電鍍層厚度控制方法

文章出處: 人氣:164 發表時間:2023-05-18 08:36

電鍍層厚度控制方法

1、原理:每種金屬電鍍時的厚度與電流密度和電鍍時間有關。

方法:首先要計算出每種工件的面積,然后根據電鍍工藝要求確定每個工件的電流密度。如BYD的Plug RF Port面積約為0.13dm2,鍍錫工藝要求電流密度為1.5A/dm2,因此每個工件的施鍍電流約0.20A。如每掛掛72個,則每掛的施鍍電流應為15A。確定了電流以后,厚度就只跟時間有關了,根據電化學計算,當電流密度為1.5A/dm2時,電鍍1u的錫鍍層約需要1.5分鐘,如要求鍍層厚度4u,則需鍍4.5分鐘。

2、第1點提到的厚度是鍍層的平均厚度,因為工件有凹凸,因此每個地方的電流密度也不盡相同,導致不同部位的厚度也不一樣,工件越復雜,厚度差也越大。減少厚度差主要有以下這些方法:

A. 鍍液中添加能減少厚度差的添加劑;B. 盡量用較小的電流電鍍;采用陰極移動;C. 在工件的高電流區采用適當的屏蔽措施等。

3、Plug銅層 合金底材的性質決定了底層不適合鍍銅。鋁合金經二次沉鋅后表面是活性較強的金屬鋅,如果鍍活性較差的銅,必將發生置換反應,嚴重影響鍍層結合力和外觀。因此一般會直接鍍鎳,如果再在鎳上鍍銅,一方面會影響結合力,另一方面對鹽霧試驗也沒有太大的幫助,也就沒什么必要。你們的技術要求銅厚度是0-1.27u,這說明是可以不鍍銅的。況且1u左右的銅層太薄了,對鹽霧試驗不會有明顯的幫助。

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